特許

J-GLOBAL ID：200903068784995371

寸法測定装置

発明者： 中谷 宏
出願人/特許権者： ヤマハ株式会社
代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-167431
公開番号（公開出願番号）：特開平8-014836
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 微小試料について断面形状異常の検出を自動化した寸法測定装置を提供する。【構成】 SEM1と、その出力信号を処理してレジストパターン4の断面寸法を測定するデータ処理装置8とを有し、データ処理装置8は、SEM1からの出力信号について複数個のしきい値で二値化する二値化回路21と、各しきい値で二値化されたデータについてそれぞれエッジ検出を行うエッジ検出回路22と、各しきい値で求められたエッジ情報に基づいて各しきい値での寸法を算出する寸法算出回路23と、求められた複数の断面寸法値としきい値の相関関係が予め定められた基準に入っているか否かを判定して形状異常検出を行う異常検出回路24を備えた。

請求項（抜粋）：

ビーム走査により微小試料の表面性状に対応する信号強度分布を持つ出力信号を出す測定機と、この測定機の出力信号を処理して前記微小試料の寸法を測定するデータ処理装置とを有する寸法測定装置において、前記データ処理装置は、前記測定機からの出力信号について複数個のしきい値で二値化する二値化手段と、この二値化手段により各しきい値で二値化されたデータについてそれぞれエッジ検出を行うエッジ検出手段と、各しきい値で求められたエッジ情報に基づいて各しきい値での寸法を算出する寸法算出手段と、求められた複数の寸法値としきい値の相関関係が予め定められた基準に入っているか否かを判定して形状異常検出を行う異常検出手段とを有することを特徴とする寸法測定装置。