特許
J-GLOBAL ID：200903068798938907
ジケトピロロピロール顔料及び塩基性ペリレン分散剤を主成分とする顔料配合物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-037762
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290523
出願日： 2000年02月16日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】改良された着色及びレオロジー特性を有する、ジケトピロロピロール顔料及び塩基性ペリレン分散剤を主成分とする新規な顔料配合物、その製造方法及び高分子量材料を着色するためのその使用法を提供する。【解決手段】ジケトピロロピロール顔料及び塩基性ペリレン分散剤を主成分とする顔料配合物。顔料配合物は、a)少なくとも1つのジケトピロロピロール顔料及びb)少なくとも1つの一般式1、例えば式XXを有するペリレン顔料分散剤を含み、有利なレオロジー及び着色特性を有する。
請求項（抜粋）：
a)少なくとも1つのジケトピロロピロール顔料またはジケトピロロピロール顔料を含有する混晶、及びb)少なくとも1つの式(I):【化1】[式中、2つのZ基は同一でも異なっていてもよく、両方のZ基が同時にZ4でないという条件で定義Z3またはZ4を有し、Z3は式(1c):【化2】(式中、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換もしくは未置換もしくは部分的にフッ素化もしくは過フッ素化されているC1-C20アルキル基、または置換もしくは未置換もしくは部分的にフッ素化もしくは過フッ素化されているC2-C20アルケニル基であり、置換基はヒドロキシル、フェニル、シアノ、クロロ、ブロモ、C2-C4アシルまたはC1-C4アルコキシであり得、或いはR2及びR3は窒素原子と一緒になって、環内に更に窒素、酸素または硫黄原子を有してもよい飽和、不飽和または芳香族ヘテロ環を形成し、及びXは1〜4個のC1-C4アルキル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基及び/または更に1〜2個のC5-C7シクロアルキル基で置換され得る、直鎖または分枝鎖C2-C6アルキレン基またはC5-C7シクロアルキレン基である)を有する基であり、Z4は水素、ヒドロキシル、アミノ、フェニル、(C1-C4アルキル)フェニルまたはC1-C20アルキルであり、前記フェニル環及び前記アルキル基はCl、Br、CN、OH、C6H5、カルバモイル、C2-C4アシル及びC1-C4アルコキシからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換され得、前記フェニル環はNR2R3で置換され得、また前記アルキル基は過フッ素化または部分的にフッ素化され得る]を有する顔料分散剤を含む顔料配合物。
IPC (4件)：
C09B 67/20
, C09B 5/62
, C09B 57/00
, C09B 67/22
C09B 67/20 L
, C09B 5/62
, C09B 57/00 Z
, C09B 67/22 F
