特許
J-GLOBAL ID：200903068806877548
X線マスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀬谷 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334928
公開番号（公開出願番号）：特開平10-247622
出願日： 1997年11月19日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】 他の特性が優れているが、光透過度が悪いためにX線マスク用メンブレン物質として使用されなかった物質を使用しても、X線リソグラフィ工程の間アライメントマークから発生するアライメント信号のコントラストを最大にすることができるX線マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 アライメントウインドウとメインチップウィンドウを有するX線マスクにおいてX線マスクとウエハーを整列するためのアラインメントウインドウ部分のメンブレン上にアライメントマークが形成され、アライメントウインドウ部分においてアライメントマーク部分を除外したメンブレン部分を除去して貫通孔を形成する。
請求項（抜粋）：
アライメントウインドウとメインチップウィンドウを有するX線マスクにおいて、X線マスクとウエハーとを整列するための前記アライメントウインドウ部分のメンブレン上にアライメントマークが形成され、前記アライメントウインドウ部分において前記アライメントマーク部分を除外した前記メンブレン部分を除去することにより貫通孔が形成されることを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
