特許
J-GLOBAL ID:200903068826483791
露光装置のステージ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-107208
公開番号(公開出願番号):特開平5-304071
出願日: 1992年04月27日
公開日(公表日): 1993年11月16日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】露光装置において、ウェーハ8が湾曲していても平坦に矯正し、転写されるパターン形状不良及びパターン位置ずれを防止する。【構成】ウェーハ8を載置する円板状のステージ本体を複数の円筒状のセグメント9a〜9eに同心円状に分割し、各セグメント9a〜9eをウェーハ8の湾曲に応じてその先端部の高さを調整し、それぞれの先端部をウェーハ8に接触させ吸着保持する。そしてウェーハ8を保持しながらセグメント9a〜9eをもとの位置に戻し、ウェーハ8の面を平坦に矯正し、保持する。
請求項(抜粋):
半導体基板を載置する円板状のステージ本体を備え、このステージ本体を複数の同心円状の円筒部材に分割し、これら同心円状の円筒部材が上下方向に互いに摺動し得るとともに各円筒部材に前記半導体基板と接触して吸着する吸着穴を有し、前記各円筒部材が前記半導体基板に対応する部分を吸着保持して移動することによって前記半導体基板の湾曲を平坦に矯正することを特徴とする露光装置のステージ。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G12B 5/00
, H01L 21/68
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