特許
J-GLOBAL ID：200903068832857342
光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165473
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014849
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 リッジ構造の光導波路における光の伝搬ロスを少なくすること。【解決手段】 本発明は、先ず、電気光学効果を有する基板1に光導波路20を形成し、基板1における光導波路20の周囲をエッチングしてリッジ構造を形成する。その後、このリッジ構造となった基板1の表面に、その基板1と同種の組成でわずかに屈折率の異なるバッファ層4を形成する。
請求項（抜粋）：
電気光学効果を有する基板に光導波路を形成する工程と、前記基板における前記光導波路の周囲をエッチングしてリッジ構造を形成する工程と、前記リッジ構造となった基板の表面に、その基板と同種の組成でわずかに屈折率の異なるバッファ層を形成する工程とを備えていることを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 J
