特許
J-GLOBAL ID:200903068835018660
気相用光触媒活性材料の製造方法および気相用光触媒活性材料
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 静男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-097171
公開番号(公開出願番号):特開2001-276614
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年10月09日
要約:
【要約】【課題】 光触媒活性能に優れ、ガス中の有害物質を短時間で分解処理し得る気相用光触媒活性材料の製造方法、および気相用光触媒活性材料を提供する。【解決手段】 光触媒活性物質を含む光触媒層を形成し、水を含む液体に接触させることにより、あるいは光触媒活性物質と保水性物質とを含む光触媒層を形成し、水を含む液体に接触させるか、または水分を含む雰囲気中に置くことにより、気相用光触媒活性材料を製造する方法、および光触媒層において、式(I) R(%)=[Aw/(Aw+Ap)]×100 ...(I)(ただし、Awは光触媒層中の水分重量、Apは光触媒層中の光触媒活性物質重量を示す。)で表される含水率Rが1重量%以上である気相用光触媒活性材料である。
請求項(抜粋):
光触媒活性物質を含む光触媒層を有し、気相中で該光触媒活性物質による分解作用を奏させる気相用光触媒活性材料の製造方法であって、上記光触媒活性物質を含む光触媒層を形成したのち、該光触媒層を水を含む液体に接触させる工程を行うことを特徴とする気相用光触媒活性材料の製造方法。
IPC (9件):
B01J 21/06
, B01D 53/86
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, B01J 21/08
, B01J 21/16
, B01J 35/02
, F01N 3/02 301
, F01N 3/08
FI (9件):
B01J 21/06 A
, B01J 21/08 A
, B01J 21/16 A
, B01J 35/02 J
, F01N 3/02 301 E
, F01N 3/08 C
, B01D 53/36 J
, B01D 53/36 ZAB G
, B01D 53/36 104 B
Fターム (59件):
3G090AA06
, 3G091AA18
, 3G091AB01
, 3G091AB13
, 3G091BA20
, 3G091GA01
, 3G091GA02
, 3G091GA03
, 3G091GA04
, 3G091GA05
, 3G091GA06
, 3G091GB01X
, 3G091GB10W
, 3G091GB16X
, 3G091GB17X
, 3G091GB19X
, 4D048AA11
, 4D048AA14
, 4D048AA18
, 4D048AA19
, 4D048AA21
, 4D048AA22
, 4D048AA23
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048AB03
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA09X
, 4D048BA41X
, 4D048BB03
, 4D048CA01
, 4D048CC38
, 4D048CC40
, 4D048DA20
, 4D048EA01
, 4D048EA04
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02B
, 4G069BA04B
, 4G069BA10B
, 4G069BA48A
, 4G069CA02
, 4G069CA03
, 4G069CA07
, 4G069CA08
, 4G069CA10
, 4G069CA15
, 4G069CA17
, 4G069CA18
, 4G069CA19
, 4G069DA05
, 4G069EA07
, 4G069EC27
, 4G069ED04
, 4G069FA03
, 4G069FB02
, 4G069FB23
前のページに戻る