特許
J-GLOBAL ID:200903068845826756

無機化合物合成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 澤野 勝文 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-194384
公開番号(公開出願番号):特開2002-011343
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】所要本数の反応管を500〜1000°C程度の無機反応温度まで短時間でムラなく均一に加熱できるようにする。【解決手段】無機合成の反応温度である500〜1000°C程度に加熱しても、外部へ放熱される熱損失を抑えて、熱効率よく均一に反応管2を加熱することができるように、熱源となるヒータ7が埋設された伝熱体4Aを高温における熱効率に優れるカーボン-アルミ複合材料で形成し、その側面及び底面を、熱伝導率の低い耐熱材で形成されたジャケット4Bで覆い、加熱ブロック4を形成した。
請求項(抜粋):
複数種類の無機物又は無機化合物を反応管(2)内に入れたまま所定の反応温度に加熱して、当該反応管(2)内で無機化合物の合成を行なわせる無機化合物合成装置において、前記反応管(2)を立てる所要数の縦孔(3)が形成されると共に熱源となるヒータ(7)が埋設された加熱ブロックと、当該加熱ブロック(4)を収容配設したハウジング(5)と、前記縦孔(3)に反応管(2)を立てた状態で反応管(2)の上から前記加熱ブロック(4)を覆う蓋体(6)とからなり、前記加熱ブロック(4)は、前記ヒータ(7)により所定の反応温度まで加熱される伝熱体(4A)がカーボン-アルミ複合材料又は炭化珪素-アルミ複合材料で形成されると共に、その側面及び底面が、前記伝熱体(4A)より熱伝導率の低い耐熱材で形成されたジャケット(4B)で覆われ、前記蓋体(6)は、前記伝熱体(4A)より熱伝導率の低い断熱性を有し、前記ハウジング(5)に支持されて加熱ブロック(4)の上面に進退可能に配されると共に、前記各縦孔(3)の位置に対応して管状ニードル挿通用の細孔(11)が貫通形成されたことを特徴とする無機化合物合成装置。
IPC (2件):
B01J 19/00 ZCC ,  C01G 1/00 ZCC
FI (2件):
B01J 19/00 ZCC Z ,  C01G 1/00 ZCC Z
Fターム (13件):
4G075AA39 ,  4G075BA10 ,  4G075BB03 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB13 ,  4G075EB15 ,  4G075EC11 ,  4G075EE31 ,  4G075FB04 ,  4G075FC06 ,  4G075FC11

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