特許

J-GLOBAL ID：200903068883374109

高度水処理装置及び高度水処理方法

発明者： 橋詰 和人
出願人/特許権者： 橋詰 和人
代理人 (1件)： 大竹 正悟
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000007626
公開番号（公開出願番号）：WO2001-030706
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2001年05月03日
要約：

【要約】単にオゾンや過酸化水素水を処理対象水に混入させてダイオキシン類、PCB等の有害物質を酸化分解しても、意図する分解効果を得るのは実際上難しい。本発明は、より確実な処理効果を実現できるオゾン処理を基本とした高度水処理方法及び高度水処理装置を提供することを目的としている。この目的を達成するために、本発明では、ダイオキシン類、PCB等の有害物質を含む処理対象水に、平均粒径を0.5〜3ミクロンに微細気泡化したオゾンを接触させるオゾン処理を行う。そしてこのオゾン処理を基本として、過酸化水素水処理、紫外線照射処理、電気分解処理、炭化濾材処理を有意に組み合わせることで高い処理効果を発揮できるようになっている。

請求項（抜粋）：

ダイオキシン類、PCB等の有害物質を含む処理対象水に微細気泡化したオゾンを接触させ処理対象水に含まれる前記有害物質を酸化分解するオゾン処理を実行する高度水処理方法。

IPC (7件)：

C02F 1/78 ,  B01D 39/20 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/72

FI (6件)：

C02F 1/78 ,  B01D 39/20 C ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 Z ,  B01D 53/34 116 F ,  C02F 1/46 101 C