特許

J-GLOBAL ID：200903068897431202

電子ビーム描画装置用アパチャおよびその作製方法

発明者： 伊藤 勝志
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-073106
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274005
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】電子ビーム描画装置用アパチャ及びその作製方法において、特別にエッチング終点検出手段を設けることなく所望の開口パターンを精度よく安価で得られるようにする。【構成】基板8の裏面に開口パターン群開口3に対応する逃げ部2の開口を決める窓17をもつ裏面エッチングマスク4aに、開口パターン形成領域の逃げ部2の開口より大きい開口をもつ窪み1a,1bを形成する窓16a,16bを追加して設け、この裏面エッチングマスク4aを介してエッチングすることにより、逃げ部2より長い時間発生している窪み1a,1bの気泡5bの無くなることを目視で確認しエッチング終了を検出している。

請求項（抜粋）：

半導体基板の表面に電子ビームを通過させ該電子ビームの断面を種々の形状パターンに成形する開口パターンの複数が形成される複数の開口パターン群形成領域と、これらの開口パターン群形成領域のそれぞれから前記半導体基板の裏面に貫通する複数の逃げ部のいずれの開口より大きい開口をもつエッチングで侵食される窪みが少なくとも一つ形成されていることを特徴とする電子ビーム描画装置用アパチャ。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 E ,  H01L 21/30 541 Q ,  H01L 21/306 U

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-243118