特許
J-GLOBAL ID：200903068900721756
半導体製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311510
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161597
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 クリーンルームの清浄度を維持し、装置内及びクリーンルーム内の空気流の乱れを防止し、手を怪我するおそれをなくすと共に安価に実施する。【構成】 装置前面のウェーハカセット受け渡し用の開口部2に、装置内とクリーンルームとの間を遮断するシャッタ1を開閉可能に設け、該シャッタ1の上端左,右部に、障害物検知センサ4を構成するスポット投光部4aとスポット受光部4bを対向して固定せしめる。
請求項（抜粋）：
ウェーハカセットを受け渡しするための開口部に、装置内とクリーンルームとの間を遮断するシャッタを開閉可能に設け、該シャッタに障害物検知センサを固定することを特徴とする半導体製造装置。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, B65G 49/00
, H01L 21/66
, H01L 21/68
