特許

J-GLOBAL ID：200903068924987315

光学素子の製造方法及び露光装置

発明者： 外山 潔
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109826
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296665
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 回転ステージに対して高い精度で基板の位置合わせを行わずとも、設計された光学特性を高い精度で発揮する光学素子を製造することができる光学素子の製造方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 レチクルRに形成されたパターンP1〜P3の像Im1〜Im3を、回転ステージ8上に載置された基板Wの転写面に転写し、所定の処理を行って製造される光学素子の製造方法であって、回転ステージ8の回転中心C1に対する基板の中心位置のずれ量を算出し、算出したずれ量に応じて基板WとレチクルRに形成されたパターンP1〜P3の像Im1〜Im3との相対位置を変化させつつパターンP1〜P3の像Im1〜Im3を基板Wの転写面に転写する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を、回転するステージ上に載置された感光基板の転写面に転写し、所定の処理を行って製造される光学素子の製造方法であって、前記ステージの回転中心に対する前記感光基板の中心位置のずれ量を算出し、当該ずれ量に応じて前記感光基板と前記マスクに形成されたパターンの像との相対位置を変化させつつ前記パターンの像を前記感光基板の転写面に転写することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 501 ,  C03C 15/00 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  C03C 15/00 D ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18

Fターム (18件)：

2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA18 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA55 ,  2H049AA64 ,  2H097AB07 ,  2H097LA17 ,  4G059AA11 ,  4G059AA20 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AB09 ,  4G059AC01 ,  4G059BB00