特許

J-GLOBAL ID：200903068925138702

薄膜形成装置

発明者： 佐々木 浩司 ,  簗嶋 克典 ,  成井 啓修 ,  目々澤 聡彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-309127
公開番号（公開出願番号）：特開2004-143521
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】基板表面に均一な膜厚の有機薄膜を形成することが可能な薄膜形成装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ11と、真空チャンバ11内に設けられた基板ホルダー12と、基板ホルダー12の基板装着面12aに向けてガスを供給する管状のガス供給端22とを備えた薄膜形成装置であって、ガス供給端22には、ガス供給端22内を閉塞する障壁42がガス供給端22のガス供給口21に向かって複数配置されており、各障壁42には複数の孔部41が設けられていることを特徴とする薄膜形成装置である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられた基板ホルダーと、前記基板ホルダーの基板装着面に向けてガスを供給する管状のガス供給端とを備えた薄膜形成装置であって、 前記ガス供給端には、当該ガス供給端内を閉塞する障壁が当該ガス供給端のガス供給口に向かって所定の間隔を有して複数配置されており、 前記各障壁には複数の孔部が設けられている ことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (5件)：

C23C16/455 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (5件)：

C23C16/455 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (11件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029DA05 ,  4K029DA06 ,  4K029JA01 ,  4K030EA01 ,  4K030EA06 ,  4K030GA04 ,  4K030KA25