特許
J-GLOBAL ID:200903068927760605
シリコーンエマルジョン組成物およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-031145
公開番号(公開出願番号):特開平10-212411
出願日: 1997年01月30日
公開日(公表日): 1998年08月11日
要約:
【要約】【課題】 機械的安定性が良好であり、かつ、離型性および印字性に優れた皮膜を形成するシリコーンエマルジョン組成物およびその製造方法を提供する。【解決手段】 (A)1分子中に、炭素原子数が8〜20の一価炭化水素基と、式:-R1COOQ(式中、R1は二価炭化水素基であり、Qは水素原子または式:-Si(CH3)3で示される基である。)で示される基を有するオルガノポリシロキサン、(B)ノニオン系乳化剤、(C)アルカリ性物質および(D)水からなり、pH値が6.5〜11.0の範囲内にあることを特徴とするシリコーンエマルジョン組成物およびその製造方法。
請求項(抜粋):
(A)一般式:【化1】[式中、Rは炭素原子数が8〜20の一価炭化水素基であり、R1は二価炭化水素基であり、Qは水素原子または式:-Si(CH3)3で示される基であり、Aはメチル基または式:-R1COOQで示される基である。xは0〜10であり、yは10〜100であり、zは0〜100であり、(x+y+z)は100以下である。]で示され、1分子中に式:-R1COOQで示される基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、(B)ノニオン系乳化剤、(C)アルカリ性物質および(D)水からなり、pH値が6.5〜11.0の範囲内にあることを特徴とするシリコーンエマルジョン組成物。
IPC (5件):
C08L 83/06
, C08K 3/22
, C08L 71/02
, C10M107/52
, C10M171/00
FI (5件):
C08L 83/06
, C08K 3/22
, C08L 71/02
, C10M107/52
, C10M171/00
引用特許:
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