特許

J-GLOBAL ID：200903068930176736

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 天野 利孝
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086430
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277428
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 最適フォーカス位置の検出に要する処理を減少させ、スループットを向上させる。【解決手段】 原板2のパターンを投影光学系5を介して基板6上に露光する露光手段と、原板のパターンまたはマークを観察するための観察光学系13と、所定の場合に観察光学系によってそのフォーカス位置を変化させながら原板のパターンまたはマークを観察することによりフォーカス計測を行って観察光学系についての最適フォーカス位置を検出するフォーカス検出手段14〜16とを備えた露光装置において、計測した最大のフォーカス計測値および検出した最適フォーカス位置を前記原板の固有のデータとして記憶し、保存するデータ保存手段を設ける。記憶されている最適フォーカス位置において1回だけフォーカス計測を実施し、あるいはその最適フォーカス位置を基準にその前後の複数点におけるフォーカス計測を実施し、その結果に基づきフォーカス計測のためのフォーカス位置の変化範囲を制御する。

請求項（抜粋）：

原板のパターンを投影光学系を介して基板上に露光する露光手段と、前記原板のパターンまたはマークを観察するための観察光学系と、所定の場合に前記観察光学系によってそのフォーカス位置を変化させながら前記原板のパターンまたはマークを観察することによりフォーカス計測を行って前記観察光学系についての最適フォーカス位置を検出するフォーカス検出手段とを備えた露光装置において、前記フォーカス検出手段は、計測した最大のフォーカス計測値および検出した最適フォーカス位置を前記原板の固有のデータとして記憶し、保存するデータ保存手段を具備することを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/207 ,  G03F 7/22

FI (6件)：

H01L 21/30 526 A ,  G01B 11/00 A ,  G03F 7/207 H ,  G03F 7/22 H ,  G02B 7/11 N ,  G02B 7/11 M

Fターム (34件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA17 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD06 ,  2F065DD10 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL10 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065PP23 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2H051AA10 ,  2H051BA72 ,  2H051CE16 ,  2H051DB01 ,  2H051EA30 ,  2H051FA48 ,  2H051GB12 ,  5F046BA04 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DC10 ,  5F046DD06 ,  5F046EC03