パターン検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-203304
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054391
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】設計データを展開したパターンデータと測定データとを比較してパターンの欠陥検査を行なう際、マスク製造プロセス上の理由によるパターンの微妙な変化に対応したデータの合わせを行なう。【解決手段】多値階調のパターンデータに展開する多値階調パターン展開回路78と、このパターンデータに対しリサイズ処理を行うリサイズ回路77と、を有し、このリサイズ処理されたデータと測定データとを比較して欠陥を検出する。リサイズ回路は、パターンデータ反転回路10,14と、パターンデータ内特定領域の最大値を検出する最大値検出回路11,パターンデータの形状を認識する斜辺検出回路12およびリサイズ処理を行うパターンデータ拡大回路13を有する。

請求項（抜粋）：

光学的に測定して得られらた検査対象の測定データと、設計データから得られたパターンデータとを比較する装置であって、設計データを多値階調パターンデータに展開する多値階調パターン展開回路と、該多値階調パターンデータ内の特定領域の最大値を検出してパターンデータのリサイズ処理を行うリサイズ回路とを少なくとも具備したことを特徴とするパターン検査装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭60-060504
特開昭60-060504

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