特許
J-GLOBAL ID：200903068959360439
スペーサー用感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-294720
公開番号（公開出願番号）：特開2007-102070
出願日： 2005年10月07日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制された感放射線性樹脂組成物、それから形成されたスペーサー、およびその形成方法を提供すること。【解決手段】(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤、を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(A)重合体を製造するリビングラジカル重合が特定のチオカルボニルチオ(ジスルフィド)化合物を分子量制御剤として用いる重合である、スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(A)重合体を製造するリビングラジカル重合が下記式(1)または式(2)で表されるチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いる重合であることを特徴とするスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/038 503
, G02F1/1339 500
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AA13
, 2H025AA14
, 2H025AB14
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025BD23
, 2H025CB30
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB56
, 2H025CC17
, 2H025FA29
, 2H089LA09
, 2H089MA04X
, 2H089NA14
, 2H089NA17
, 2H089PA05
, 2H089PA06
, 2H089PA09
, 2H089QA14
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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特願2006-512918
出願番号：特願2006-512918
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フォトレジスト組成物およびそれらの調製方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-139039
出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
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粘着剤組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-230953
出願人：鐘淵化学工業株式会社
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