特許
J-GLOBAL ID:200903068966550006

フォトマスク及びそれを使用したプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 土井 育郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-037960
公開番号(公開出願番号):特開平11-224603
出願日: 1998年02月05日
公開日(公表日): 1999年08月17日
要約:
【要約】【課題】 フォトリソグラフィー法によりプラズマディスプレイパネルの蛍光面を形成する際に、精度よくアライメントができるようにする。【解決手段】 基板には有効表示範囲外に少なくとも3本のダミーリブを設けておき、フォトマスク10には最外位置にある透明ライン部11から3本外側のセルに収まるように縦方向に設けられた縦ライン部12と、縦ライン部12の一方側に突き出た凸部13と、その凸部13の反対側の凸部14から斜め方向に少なくとも3本のリブを横切る長さで延びる延長部15とで構成されるアライメントマーク16を設けておき、ダミーリブとアライメントマーク16とにより基板とフォトマスクの横方向のアライメントを行って露光を行うようにする。リブとフォトマスク10とのアライメントを合わせて蛍光面を形成するので、蛍光体層のアライメントずれを防止できる。
請求項(抜粋):
基板上に設けられた複数の平行な縦方向のライン状リブにより区画される複数のセルの中に、3本毎のセルに合う複数の透明ライン部を備えたフォトマスクを使用して感光性の蛍光面形成層を露光する工程を含むフォトリソグラフィー法により、赤、緑、青の蛍光面を順次形成するプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成時に使用するフォトマスクであって、ライン状リブにより区画されたセル中に相当する位置にアライメントマークを設けたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (4件):
H01J 9/227 ,  G03F 1/08 ,  H01J 11/02 ,  H01J 17/04
FI (5件):
H01J 9/227 E ,  G03F 1/08 N ,  H01J 11/02 Z ,  H01J 11/02 B ,  H01J 17/04

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