特許

J-GLOBAL ID：200903068986742017

アブレーション現像方法およびその装置

発明者： 鈴木 堅吉 ,  松田 正昭 ,  荻野 利男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-060812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-257770
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【目的】エキシマレーザーによる光学系のダメージを回避して大面積パターニングを行う。【構成】エキシマレーザー1の光ビームを小面積の多数の光ビームに分割して前記各光ビームをそれぞれ集光し、各集光点を照明光源として露光マスク7の面を均一に照射し、結像レンズ8の入射瞳9に前記照明光源の像を形成して露光マスク7の開孔パターンを結像レンズ8の結像面に置かれた加工物の限定領域に対して一対一に結像すると共に、限定領域を加工物の全域に走査させることにより、加工物の全域にアブレーション現象による前記露光マスクの開孔パターンに対応したパターンを現像形成するアブレーション現像を施す。

請求項（抜粋）：

光源として紫外光パルスレーザーを用い、前記紫外光パルスレーザーからの出力光ビームを所定の開孔パターンを有する露光マスクと結像レンズを介して結像面に置かれた加工物に照射して前記露光マスクの開孔パターンに対応したパターンを露光と同時に現像形成するアブレーション現像方法であって、前記紫外光パルスレーザーの出力光ビームを小面積の多数の光ビームに分割して前記各光ビームをそれぞれ集光し、前記各集光点を照明光源として前記露光マスクの面を均一に照射し、かつ、前記結像レンズの入射瞳に前記照明光源の像を形成して、前記露光マスクの開孔パターンを前記結像レンズの結像面に置かれた加工物の限定領域に対して一対一に結像すると共に、前記限定領域を前記加工物の全域に走査させることにより、前記加工物の全域にアブレーション現象による前記露光マスクの開孔パターンに対応したパターンを現像形成するアブレーション現像を施すことを特徴とするアブレーション現像方法。

IPC (6件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/136 500 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

B23K 26/00 A ,  B23K 26/06 J ,  B23K 26/06 C ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/136 500 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 H