特許

J-GLOBAL ID：200903068996098540

N,N-二置換スルホンアミド懸垂基を有する重合体およびその使用

発明者： マティアス、アイヒホルン ,  ゲルハルト、ブール
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311773
公開番号（公開出願番号）：特開平6-263717
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】【目的】 オフセット印刷板およびフォトレジストの製造に特に好適であるモノマーおよび放射線感応性記録の提供。【構成】 式R1 -SO2 -N(CO-OR2 )-R3 -O-CO-CR4 =CH2 およびR1 -N(CO-OR2 )-SO2 -R3 -O-CO-CR4 =CH2 のモノマー、ならびに、少なくとも5モル%の、式-R3 -N(CO-OR2 )-SO2 -R1 (I)および/または-R3 -SO2 -N(CO-OR2 )-R1 (II)の懸垂基を有する単位を有する重合体、およびa)化学線放射の影響下で酸を形成する化合物、およびb)酸により開裂し得る化合物であって、その開裂生成物がその出発化合物より水性-アルカリ性現像剤中で高い溶解性を有する化合物を含む放射感応性混合物であって、酸により開裂し得る化合物が上記の種類の重合体である混合物、および支持体および放射線感応性層を含む記録材料。

請求項（抜粋）：

式R1 -SO2 -N(CO-OR2 )-R3 -O-CO-CR4 =CH2 またはR1 -N(CO-OR2 )-SO2 -R3 -O-CO-CR4 =CH2 の化合物[式中、R1 は(C1 〜C20)アルキル、(C3 〜C10)シクロアルキル、(C6 〜C14)アリールまたは(C7 〜C20)アラルキル基であり、アルキルを含む基中の個々のメチレン基は所望によりヘテロ原子により置換されており、R2 は(C3 〜C11)アルキル、(C3 〜C11)アルケニルまたは(C7 〜C11)アラルキル基であり、R3 は非置換または置換(C1 〜C6 )アルキレン、(C3 〜C6 )シクロアルキレン、(C6 〜C14)アリーレンまたは(C7 〜C20)アリーレンジアルキル基であり、R4 は水素原子またはメチル基である。]。

IPC (2件)：

C07C311/51 ,  C08F 20/38 MMU