特許

J-GLOBAL ID：200903068998643472

積層体の製造方法

発明者： 宮崎 幸 ,  湯浅 基和 ,  河合 重征
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-005716
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204581
出願日： 1994年01月24日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】撥水性に優れ且つ高硬度の積層体の製造方法を提供する。【構成】シリコンアルキルアルコキシドのアルコキシル基の一部をアルキル基にて置換した置換シリコンアルコキシドのゾル溶液を基材面上に塗布する工程と、そのゾル溶液を塗布した基材面に1×10-4〜100Torrの圧力下でフッ素含有ガスが励起されたグロー放電プラズマを照射して表面の置換シリンコアルコキシドのアルキル基をフッ素化する工程からなる。

請求項（抜粋）：

R<SP>1 </SP><SB>x </SB>Si(OR<SP>2 </SP>)<SB>4-x </SB>〔式中、R<SP>1 </SP>及びR<SP>2 </SP>はC<SB>n </SB>H<SB>2n</SB><SB>+1</SB>で表されるアルキル基(nは自然数)、xは0<x<4の任意の数を示す〕で表されるシリコンアルコキシドのゾル溶液を基材面上に塗布する工程、そのゾル溶液が塗布された基材面に1×10<SP>-4</SP>〜100Torrの圧力下でフッ素含有ガスが励起されたグロー放電プラズマを照射して表面のシリンコアルコキシドのアルキル基をフッ素化する工程からなることを特徴とする積層体の製造方法。

IPC (7件)：

B05D 7/24 302 ,  B05D 3/04 ,  B05D 3/06 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/16 ,  C08J 7/00 303 ,  C08J 7/04