特許
J-GLOBAL ID：200903069004442682
加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 浩二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-030647
公開番号（公開出願番号）：特開平11-211350
出願日： 1998年01月27日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 雰囲気ガスの消費量が少なくて済み、ガス置換が短時間で行われ、処理品からの飛散物が設備品を損傷させるおそれが少なく、かつまた加熱,冷却が容易である金属処理品の加熱装置をする。【解決手段】 加熱室1と冷却室5と移動ユニット10とからなり、移動ユニットは基板12上に配置された金属処理品13が囲われるようにマッフル14を設けるとともにそのマッフル内の空気を排出させる真空ポンプ16を基板の外側に一体に付設してなり、前記マッフルが加熱室内および冷却室内に交互に挿入し得るように前記移動ユニットを両室間にて往復動させる移動手段を設けた。
請求項（抜粋）：
加熱室と冷却室と移動ユニットとからなり、移動ユニットは基板上に配置された金属処理品が囲われるようにマッフルを設けるとともにそのマッフル内の空気を排出させる真空ポンプを基板の外側に一体に付設してなり、前記マッフルが加熱室内および冷却室内に交互に挿入し得るように前記移動ユニットを両室間にて往復動させる移動手段を設けたことを特徴とする加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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