特許

J-GLOBAL ID：200903069005567250

光学素子の製造方法または素子の製造方法、これらの素子を有する光学系、撮影装置、観察装置

発明者： 松本 鋼清 ,  山本 潔
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-250023
公開番号（公開出願番号）：特開2002-062416
出願日： 2000年08月21日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】離型性の良い光学素子の製造方法または素子の製造方法、これらの素子を有する光学系、撮影装置、観察装置を提供する。【解決手段】型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形する。

請求項（抜粋）：

型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/18 ,  C03B 11/00 ,  G02B 3/08

FI (3件)：

G02B 5/18 ,  C03B 11/00 E ,  G02B 3/08

Fターム (6件)：

2H049AA17 ,  2H049AA18 ,  2H049AA32 ,  2H049AA40 ,  2H049AA45 ,  2H049AA63