スキャン露光装置およびスキャン露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-143099
公開番号（公開出願番号）：特開平9-326348
出願日： 1996年06月05日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【課題】スキャン露光と同時にレチクルとウエハの相対変位の検出を容易化し、スキャン露光中においてもウエハのアライメントを高精度で行なう。【解決手段】スキャン露光装置において、レチクル2上で描画パターン形成領域15のスキャン方向に沿う両側に連続的に配置された一次元回折格子3と、ウエハ9のチップ領域10のスキャン方向に沿う両側に連続的に配置された二次元回折格子11と、一次元回折格子にアライメント光1a、1bを照射し、これを通過した回折光を投影レンズ7を介して二次元回折格子に集光させ、これから反射した回折光に基づいて2つの回折格子のスキャン方向の位置ずれ量を検出し、位置ずれ量が所定範囲内に収まるようにレチクルおよびウエハの少なくとも一方の位置を微調整するTTRアライメント装置とを具備する。

請求項（抜粋）：

描画パターンが形成されたレチクルと、前記レチクルが搭載されたレチクルステージと、半導体ウエハが搭載されたウエハステージと、前記レチクルに露光光を照射して前記描画パターンを投影レンズを介して前記半導体ウエハ上に投影する投影光学系と、前記レチクルステージとウエハステージとを描画スキャン方向に対して相対的に移動させながら前記投影光学系を用いて前記半導体ウエハに対する逐次露光を行うスキャン露光機構と、前記レチクル上に描画パターン形成領域のスキャン方向に沿う両側に連続的に配置された縦縞格子パターンを有する第1の一次元回折格子と、前記半導体ウエのチップ領域のスキャン方向に沿う両側に連続的に配置された二次元回折格子と、前記一次元回折格子にアライメント光を照射し、前記一次元回折格子を通過した回折光を前記投影光学系の投影レンズを介して前記二次元回折格子に集光させ、前記二次元回折格子から反射した回折光に基づいて前記一次元回折格子および二次元回折格子のスキャン方向の位置ずれ量を検出し、この検出された位置ずれ量が所定範囲内に収まるように前記レチクルステージおよびウエハステージの少なくとも一方の位置を微調整するTTRアライメント装置と、前記レチクルと前記投影レンズとの間に配置された色収差補正機構とを具備することを特徴とするスキャン露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 518 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 522 D , H01L 21/30 525 D , H01L 21/30 525 S

引用特許：

審査官引用 (6件)

走査露光装置および物体の移動測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-245054 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-127481 出願人：株式会社ニコン
位置合わせ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-227765 出願人：松下電器産業株式会社

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