マスク欠陥検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-164172
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014551
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】微細化されたマスクパタ-ンの欠陥を検出することができるマスク検査装置を提供すること。【解決手段】深紫外のレ-ザ光をパルス発振可能なレ-ザ発振源11と、このレ-ザ発振源から出力されるレ-ザ光をレ-ザ光の空間位相分布を変化させるように反射する振動ミラ-15と、この振動ミラ-で反射されたレ-ザ光が照射されるマスクパタ-ン19と、このマスクパタ-ンを通過したレ-ザ光を受光する受光センサ22と、受光センサで受光されたマスクパタ-ンの撮像画像とマスクパタ-ンの参照画像とを比較することによりマスクの欠陥を抽出する制御回路10とを具備するようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

深紫外のレ-ザ光を発振可能なレ-ザ発振源と、このレ-ザ発振源から出力されるレ-ザ光をレ-ザ光の空間位相分布を変化させるように反射する振動ミラ-と、この振動ミラ-で反射されたレ-ザ光が照射されるマスクパタ-ンと、このマスクパタ-ンを通過したレ-ザ光を受光する受光センサと、上記受光センサで受光されたマスクパタ-ンの撮像画像とマスクパタ-ンの参照画像とを比較することによりマスクの欠陥を抽出する手段とを具備するようにしたことを特徴とするマスク欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/24 , G01B 11/30 , G06T 7/00

FI (5件)：

G01N 21/88 E , G01B 11/24 F , G01B 11/24 K , G01B 11/30 C , G06F 15/62 405 A

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