特許
J-GLOBAL ID:200903069035795516

微孔質エラストマーの製造用反応系

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇井 正一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-190994
公開番号(公開出願番号):特開平6-206967
出願日: 1993年08月02日
公開日(公表日): 1994年07月26日
要約:
【要約】【目的】 微孔質エラストマーの製造用反応系を提供する。【構成】 1)15〜25重量%の遊離NCO値を有しかつ過剰の有機ポリイソシアネートと2〜6の平均公称ヒドロキシル官能価、2000〜6000の数平均分子量及び20〜35重量%のエチレンオキシド含量を有しそしてその末端に少なくとも50%のエチレンオキシド基が存在するポリエーテルポリオールとの反応生成物であるイソシアネート末端プレポリマーを含むポリイソシアネート組成物、2)ポリオール、及び3)水を含む反応系。
請求項(抜粋):
1)15〜25重量%の遊離NCO値を有しかつ過剰の有機ポリイソシアネートと2〜6の平均公称ヒドロキシル官能価、2000〜6000の数平均分子量及び20〜35重量%のエチレンオキシド含量を有しそしてその末端に少なくとも50%のエチレンオキシド基が存在するポリエーテルポリオールとの反応生成物であるイソシアネート末端プレポリマーを含むポリイソシアネート組成物、2)ポリオール、及び3)水を含む反応系。
IPC (5件):
C08G 18/48 NEA ,  C08G 18/10 NFT ,  C08G 18/34 NDX ,  C08G 18/48 ,  C08G101:00

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