特許

J-GLOBAL ID：200903069041735819

脱墨剤組成物

発明者： 水足 岳明 ,  本間 正敏
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099289
公開番号（公開出願番号）：特開平10-292279
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】 従来の脱墨剤では、微細カーボンの凝集力、白色度、残インキ、製品の歩留まり及び泡切れのよさ等の脱墨剤に要求される性能が高度化されてきた現在、その要求に応える性能が得られなかった。【解決手段】 本発明の脱墨剤組成物は、(A)成分として、下記の一般式(1)【化1】R1-O-(R2-O)n-H (1)(式中、R1及びR2は、炭化水素基を表わし、nは1以上の数を表す。)で表される化合物及び(B)成分として下記の一般式(2)【化2】[式中、X1、X2及びX3は、水素原子、脂肪酸残基又は-(R3-O)m-R4(式中、R3は、炭化水素基を表わし、R4は、水素原子又は脂肪酸残基を表わし、mは、1以上の数を表わす)で表わされる基を表わす。]で表わされる化合物を含有してなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(A)成分として、下記の一般式(1)【化1】R1-O-(R2-O)n-H (1)(式中、R1及びR2は、炭化水素基を表わし、nは1以上の数を表す。)で表される化合物及び(B)成分として下記の一般式(2)【化2】[式中、X1、X2及びX3は、水素原子、脂肪酸残基又は-(R3-O)m-R4(式中、R3は、炭化水素基を表わし、R4は、水素原子又は脂肪酸残基を表わし、mは、1以上の数を表わす)で表わされる基を表わす。]で表わされる化合物を含有する脱墨剤組成物。