特許
J-GLOBAL ID：200903069051205788
真空炉
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 喜幾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-335107
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152245
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】 処理品を均一に加熱して、高品質製品を得る。【解決手段】 真空容器10の内部に収納された断熱壁11により囲繞されて、熱処理室12が画成される。断熱壁11の前面の炉壁に、処理品13の炉内への装出入口14が設けられ、該装出入口14には開閉扉15が開閉可能に配設される。熱処理室12の内部には、装入された処理品13の炉幅方向の左右両面および後面と対向する位置にラジアントチューブ18が夫々配設される。熱処理室12における装出入口14を挟む炉幅方向の左右両側に、電気抵抗式ヒータ20,20が配設され、該ヒータ20,20により処理品13の装出入口14と対向する前面を、補助的に加熱するよう構成される。
請求項（抜粋）：
主加熱源としてラジアントチューブ(18)を用いる真空炉において、炉内に装入された処理品(13)の前記ラジアントチューブ(18)と対向する主加熱面以外の部位を加熱するヒータ(20,22)を設けたことを特徴する真空炉。
IPC (5件)：
C21D 1/34
, B22F 3/10
, C04B 35/64
, C21D 1/40
, F23D 14/12
C21D 1/34 P
, C21D 1/40 C
, F23D 14/12 A
, B22F 3/10 L
, C04B 35/64 J
3K017BA02
, 3K017BB07
, 3K017BB09
, 4K018DA23
, 4K018DA32
, 4K018DA45
