平面研磨装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015970
公開番号（公開出願番号）：特開2000-210865
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】汎用の平面研磨装置で2段階研磨をなるべく高速に行なうこと。【解決手段】第1のアーム軸51、及びこれと同軸な第2のアーム軸51aのまわりに夫々、回転自在な第1及び第2の回転アーム52、52aの両側同じ半径位置に夫々に釣り下げ状に4個のウェハヘッド53a〜dを設け、第1、第2のアーム軸を取り巻くように等角度で、ウェハヘッドの配置半径に対応した位置に、4個の回転プラーテン56a〜dと、その夫々の間の角度位置で等角度位置に4個の洗浄バス55a〜dとを備え、ウェハヘッドは両回転アームに対して上下動自在で、ウェハ54を下面に吸着保持して回転プラーテンに押し付け、自転してポリシングする。洗浄バスは移送ステーションを兼ねていて、そこでウェハの乗せ替えが行われる。

請求項（抜粋）：

垂直な第1のアーム軸まわりに回転自在であって前記第1のアーム軸に対して対称方向に伸びる第1の回転アームと、前記第1のアーム軸に同軸な第2のアーム軸まわりに回転自在であって前記第1、第2のアーム軸に対して対称方向に伸びる第2の回転アームと、前記両回転アームの同じ半径位置それぞれに釣り下げ状に設けた計4個のウェーハヘッドと、前記第1、第2のアーム軸を取り巻くように等角度でウェーハヘッドの配置半径に対応した位置に配置された4個の回転プラーテンと、前記回転プラーテンの間の角度位置であって等角度でウェーハヘッドの配置半径に対応した位置に配置された4個所の洗浄ステーションとを備え、前記ウェーハヘッドは下面に板状材を吸着保持して前記回転アームに対して上下動自在であってポリシングに際して降下して前記板状材を前記回転プラーテンに押し付けると共に、ポリシングのために自転可能であり、前記各洗浄ステーションには前記ウェーハヘッドが吸着保持した板状材を洗浄する洗浄手段が配置されると共に、少なくとも1個所は移送ステーションを兼ねていて、そこに研磨される板状材が供給され、そこで前記ウェーハヘッドがその板状材を受け取ると共に研磨処理済みの板状材をそこに返し、そこから取り出されることを特徴とする平面研磨装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , B24B 41/06 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 37/04 Z , B24B 41/06 A , H01L 21/304 622 Q

Fターム (13件)：

3C034AA07 , 3C034BB73 , 3C034BB76 , 3C058AA07 , 3C058AA16 , 3C058AA18 , 3C058AB03 , 3C058AB08 , 3C058AC01 , 3C058AC04 , 3C058CB03 , 3C058DA02 , 3C058DA17

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