特許

J-GLOBAL ID：200903069057225667

光学装置

発明者： 折野 干城
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-181447
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013453
出願日： 1999年06月28日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 角度依存性を有するビームスプリッタを収束光束中又は発散光束中で使用した場合でも、光軸方向制御の不安定や光軸調整誤差による性能低下を防止する。【解決手段】 レーザーダイオード光源21を出射した光束は、正のパワーを有するレンズ22及び負のパワーを有するレンズ23により球面収差が補正され、複合プリズム20の偏光分離面20aにおいて反射され、正のパワーを有するレンズ群25から対向装置へ向けて送信伝送される。一方、対向装置からの受信光は正のパワーを有するレンズ群25より入射し、複合プリズム20の光強度分布補正面20bを透過して、光強度分布の対称性が確保されて4分割センサ24に受光される。このように、受光光は偏光分離面20aと光強度分布補正面20bを共に透過することによって、偏光分離面20aを透過したときに発生する光強度分布の非対称性が打ち消されて、4分割センサ24の受光面上における受光ビームスポットの光強度分布を直交する2つの軸に関して対称にすることができる。

請求項（抜粋）：

投光手段と、受光手段と、正のパワーを有するレンズ群と、投光光軸及び受光光軸が交叉する位置に配した光分岐手段とを有する光学装置において、前記光分岐手段及び前記受光手段の間に光強度分布補正手段を備え、前記正のパワーを有するレンズ群と前記光分岐手段を経て前記光強度分布補正手段を透過又は反射する受光光の光軸に垂直な断面内における光透過率分布又は光反射率分布を、直交する2つの軸に関して対称としたことを特徴とする光学装置。

IPC (5件)：

G02B 27/10 ,  G11B 7/135 ,  H04B 10/105 ,  H04B 10/10 ,  H04B 10/22

FI (3件)：

G02B 27/10 ,  G11B 7/135 Z ,  H04B 9/00 R

Fターム (13件)：

5D119AA36 ,  5D119AA43 ,  5D119EC01 ,  5D119JA07 ,  5D119JA12 ,  5D119LB05 ,  5K002AA05 ,  5K002AA07 ,  5K002BA02 ,  5K002BA04 ,  5K002BA13 ,  5K002BA21 ,  5K002FA03