均質化装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：正林真之 , 高岡亮一 , 林一好 , 加藤清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-182665
公開番号（公開出願番号）：特開2009-018251
出願日： 2007年07月11日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：

【課題】流体を均質化でき且つ処理量を向上できる均質化装置を提供すること。【解決手段】均質化装置10は、深さ方向に向かって縮径する凹部23と、この凹部23の底部24に連通された導出路25とを有する臼体20と、凹部23と略対称な形状を有し、僅少な隙間Cをあけて凹部23に嵌合された嵌合体30とを備える。供給口43から供給された複数成分の流体は、隙間Cを通って導出路25から導出される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

深さ方向に向かって縮径する凹部と、この凹部の底部を外部に連通する導出路とを有する臼体と、前記凹部と略対称な表面形状を有し、僅少な隙間をあけて前記凹部に嵌合された嵌合体と、を備える均質化装置であって、供給された複数成分の流体は、前記隙間を通って前記導出路から導出される均質化装置。

IPC (5件)：

B02C 19/10 , B01F 5/06 , B01F 11/02 , B01J 19/10 , B02C 19/20

FI (5件)：

B02C19/10 A , B01F5/06 , B01F11/02 , B01J19/10 , B02C19/20 Z

Fターム (17件)：

4D067CF07 , 4D067CF12 , 4D067GA20 , 4G035AC26 , 4G035AC51 , 4G035AE19 , 4G036AB21 , 4G075AA27 , 4G075AA39 , 4G075BA10 , 4G075BB10 , 4G075CA23 , 4G075DA02 , 4G075EB46 , 4G075ED01 , 4G075ED15 , 4G075FB20

引用特許：

出願人引用 (1件)

微小構造体の製造方法およびマイクロリアクター
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-213881 出願人：株式会社KRI

審査官引用 (7件)

微粉末の分散化・微粉細化方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-071367 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
液状材料連続混合装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-184345 出願人：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
流体ミキサー
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-211270 出願人：有限会社エプコン

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