特許
J-GLOBAL ID：200903069067922609
ウェーハのスクラッチ解析方法及びスクラッチ解析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
木村 高久
, 小幡 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-047664
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259871
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】複数の研磨工程を経て形成されたウェーハのスクラッチに基づいて研磨装置が有するパラメータを求めることによって、スクラッチ形成に関わった研磨装置を特定して研磨工程の改善に寄与する。【解決手段】ウェーハ5の研磨前に、プレート3に対する相対的な位置を定めてウェーハ5を固定し、研磨装置1によるウェーハ5の研磨後、ウェーハ5に形成されたスクラッチ20上の一点における曲率円中心Qと固定面3aの回転中心O2との間の距離rdと、スクラッチ20上の一点と固定面3aの回転中心O2との間の距離ρsと、スクラッチ20上の一点における曲率半径ρと、を用いて、プレート3の回転速度αと下盤2の回転速度βの比率β/αを求める。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
ウェーハを固定する固定面を有し、この固定面上の一点を回転中心とするプレートと、ウェーハを研磨する研磨面を有し、この研磨面上の一点を回転中心とする下盤と、を備え、前記固定面の回転中心の周囲にウェーハを固定し、前記研磨面の回転中心の周囲にプレートを設けて前記下盤及び前記プレートを回転することによってウェーハを研磨する研磨装置を用いた際、前記研磨面に付着した固形異物によってウェーハに形成されたスクラッチを解析するウェーハのスクラッチ解析方法において、
ウェーハの研磨前に、前記プレートに対する相対的な位置を定めてウェーハを固定する固定工程と、
前記スクラッチ上の一点における曲率円中心と前記固定面の回転中心との間の距離と、前記スクラッチ上の一点と前記固定面の回転中心との間の距離と、前記スクラッチ上の一点における曲率半径と、を用いて、前記プレートの回転速度と前記下盤の回転速度の比率を求める演算工程と、を備えたこと
を特徴とするウェーハのスクラッチ解析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/304 622Z
, B24B37/00 Z
3C058AA07
, 3C058AC02
, 3C058CB01
, 3C058DA17
