特許
J-GLOBAL ID：200903069084602820
平坦化膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-163449
公開番号（公開出願番号）：特開平5-032410
出願日： 1991年06月10日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：
【要約】【構成】 非水条件下で形成された酸化ケイ素膜から成る平坦化膜。【効果】 吸湿性が低く、均質でち密であって、厚膜にしてもクラックが発生することがなく、平坦化作用に優れており、例えば半導体素子や液晶表示素子などの基板の平坦化に好適に用いられる。
請求項（抜粋）：
非水条件下で形成された酸化ケイ素膜から成る平坦化膜。
IPC (3件)：
C01B 33/12
, H01L 21/316
, H01L 21/90
