特許

J-GLOBAL ID：200903069086342079

ポリスチレン型マクロモノマーの製造方法

発明者： 東村 敏延 ,  澤本 光男 ,  上垣外 正己 ,  宮下 和晃
出願人/特許権者： 東亞合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-112303
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287023
出願日： 1992年04月06日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【目的】操作が容易で、しかも得られるマクロモノマーの分子量分布が狭いポリスチレン型マクロモノマーの製造方法の提供。【構成】4級アンモニウム塩の存在下で、ルイス酸性を有するハロゲン化金属およびプロトン酸からなる重合開始剤により、スチレン単量体をリビングカチオン重合させた後、式(1):Z-SiR1 R2 R3 (式中、Zはエチレン性不飽和結合を有する求核性置換基であり、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ炭素数が1〜6個のアルキル基およびアリール基からなる群から選ばれた基である。)で表されるシラン化合物または式(2):Y-MgX(式中、Yはエチレン性不飽和結合を有する求核性置換基であり、Xはハロゲン原子である。)で表されるグリニヤール化合物によって、重合を停止させることを特徴とするポリスチレン型マクロモノマーの製造方法。

請求項（抜粋）：

4級アンモニウム塩の存在下で、ルイス酸性を有するハロゲン化金属およびプロトン酸からなる重合開始剤により、スチレン単量体をリビングカチオン重合させた後、下記化学式(1)で表されるシラン化合物または化学式(2)で表されるグリニヤール化合物によって、重合を停止させることを特徴とするポリスチレン型マクロモノマーの製造方法。化学式(1):Z-SiR1R2R3(式中、Zはエチレン性不飽和結合を有する求核性置換基であり、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ炭素数が1〜6個のアルキル基およびアリール基からなる群から選ばれた基である。)化学式(2):Y-MgX(式中、Yはエチレン性不飽和結合を有する求核性置換基であり、Xはハロゲン原子である。)

IPC (3件)：

C08F 12/08 MJU ,  C08F 2/00 MCX ,  C08F299/00 MRN

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-045106