特許

J-GLOBAL ID：200903069093403229

半導体露光装置、半導体製造装置および半導体製造方法

発明者： 京徳 諭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-365069
公開番号（公開出願番号）：特開2000-188252
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】 バージョンアップ時のパラメータ設定に伴う生産停止・装置停止時間を短縮して半導体製造工場における生産効率を向上する。【解決手段】 ネットワーク接続ためのインタフェイス並びにソフトウエアのバージョンアップによりソフトウェアで制御する機能の追加および不具合の修正を可能とする手段を具備する半導体露光装置において、バージョンアップに伴い半導体露光装置の管理装置から転送される追加または変更すべきパラメータ値をネットワークを介して受信し、バージョンアップ後に使用するためにその受信パラメータ値を設定する。

請求項（抜粋）：

ネットワーク接続ためのインタフェイス並びにソフトウエアのバージョンアップによりソフトウエアで制御する機能の追加および不具合の修正を可能とする手段を具備する半導体露光装置において、前記バージョンアップに伴い半導体露光装置の管理装置から転送される追加または変更すべきパラメータ値を前記ネットワークを介して受信し、前記バージョンアップ後に使用するためにその受信パラメータ値を設定する手段を有することを特徴とする半導体露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 ,  G06F 9/06 410

FI (5件)：

H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  G06F 9/06 410 P ,  H01L 21/30 514 E

Fターム (5件)：

5B076AC03 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30 ,  5F046DD06