特許

J-GLOBAL ID：200903069096112292

含フッ素芳香族化合物およびその中間体の製造方法

発明者： 手嶋 成市 ,  浅子 佳延
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-205419
公開番号（公開出願番号）：特開2001-031598
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】 特殊な設備を必要とせずに簡単な操作でかつ安価に含フッ素芳香族化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 下記式(1):【化1】(ただし、R1及びR2は、それぞれ独立して、フェニレン基以外の置換基を有してもよい2価の芳香族環を表わし;X1、X2、X3及びX4は、それぞれ独立して、酸素または硫黄原子を表わし;ならびにp及びqは、それぞれ独立して、2または3である)で示されるジ(チオ)アセタール化合物誘導体をフッ素化合物と臭素含有化合物の存在下で反応させることからなる下記式(2):【化2】で示される含フッ素芳香族化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記式(1):【化1】ただし、R1及びR2は、それぞれ独立して、フェニレン基以外の置換基を有してもよい2価の芳香族環を表わし;X1、X2、X3及びX4は、それぞれ独立して、酸素または硫黄原子を表わし;ならびにp及びqは、それぞれ独立して、2または3である、で示されるジ(チオ)アセタール化合物誘導体をフッ素化合物と臭素含有化合物の存在下で反応させることからなる下記式(2):【化2】ただし、R1及びR2は、上記式(1)における定義と同様である、で示される含フッ素芳香族化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07C 17/18 ,  C07C 22/08 ,  C07D307/91 ,  C07D339/06 ,  C07D495/10

FI (5件)：

C07C 17/18 ,  C07C 22/08 ,  C07D307/91 ,  C07D339/06 ,  C07D495/10

Fターム (29件)：

4C023NA01 ,  4C037SA10 ,  4C071AA04 ,  4C071BB03 ,  4C071CC24 ,  4C071EE12 ,  4C071FF22 ,  4C071KK01 ,  4C071LL07 ,  4H006AA02 ,  4H006AC30 ,  4H006BA51 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB25 ,  4H006BB61 ,  4H006BB71 ,  4H006BC18 ,  4H006BC35 ,  4H006BE01 ,  4H006BE53 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006FC54 ,  4H006FC56 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74