特許
J-GLOBAL ID：200903069103633376
位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-301942
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148870
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【目的】 位相シフト層を有するフォトマスクの突起状の欠陥部を簡単な方法で精度よく修正する。【構成】 位相シフト層3又はガラス基板1上に透明突起状の欠陥部4を有する位相シフトフォトマスクの修正方法であって、先端が尖った微細プローブ20で欠陥部4を引っ掻いて物理的に除去する。
請求項（抜粋）：
位相シフト層又はガラス基板上に透明突起状の欠陥部を有する位相シフトフォトマスクの修正方法において、先端が尖った微細プローブで前記透明突起状欠陥部を引っ掻いて物理的に除去することを特徴とする位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 301 W
, H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
