特許

J-GLOBAL ID：200903069111564057

コポリマーの製造方法

発明者： ネデルジユコ ブラジミーラ ボツデイク ,  チ-ロン リー
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-シヨン
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097625
公開番号（公開出願番号）：特開平5-125190
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】 ジメチルシロキシ反復単位とジフェニルシロキシ反復単位とを所望の比率で含有するコポリマーの製造方法を提供する。【構成】 ヘキサメチルシクロトリシロキサンとヘキサフェニルシクロトリシロキサンとの混合物を、リチウム含有触媒及び溶剤の存在下、所望の開環反応を促進するように選択された温度で反応させる工程から本質的に成る。100°C未満の温度はヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環を促進し、100°Cを越える温度はヘキサフェニルシクロトリシロキサンの開環を促進する。ヘキサメチルシクロトリシロキサンとヘキサフェニルシクロトリシロキサンとの比率を選択して、所望の種類のポリマーを得る。

請求項（抜粋）：

ジメチルシロキシ反復単位とジフェニルシロキシ反復単位とを所望の比率で含有するコポリマーの製造方法において、(A)ヘキサメチルシクロトリシロキサンとヘキサフェニルシクロトリシロキサンとの混合物を、リチウム含有触媒と溶剤との存在下、所望の開環反応を促進するように選択された温度で反応させ(100°C未満の温度はヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環を促進し、100°Cを越える温度はヘキサフェニルシクロトリシロキサンの開環を促進し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン対ヘキサフェニルシクロトリシロキサンの比率を選択して所望の種類のポリマーを得る)、次いでポリマーを過剰のメタノールに加えて沈澱させ且つ濾過することによって前記ポリマーを溶液から除去し、続いて残る溶剤を濾過物から蒸発させてコポリマーを得る工程、を含んで成る前記コポリマーの製造方法。

IPC (2件)：

C08G 77/06 NUB ,  C08G 77/06 NUD