特許

J-GLOBAL ID：200903069115269378

ガス分離フィルタおよびその製造方法

発明者： 積 洋二 ,  大嶋 仁英
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-017579
公開番号（公開出願番号）：特開2000-157853
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】特定の分子径を有するガスを含有する混合ガスから該特定の分子径を有するガスを選択的かつ効率的に分離するのに好適なガス分離フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】多孔質支持体2の少なくとも一方の表面に通気性を有するSiを含有し、環状のシロキサン結合によって形成された複数の細孔4、5を有する非晶質の酸化物からなる分離膜3を被着形成したガス分離フィルタであって、前記複数の細孔4、5のうち、一部の細孔5が、細孔5を形成する前記環状シロキサン結合の側鎖に結合した特定の官能基によって閉塞されてなり、閉塞された細孔5以外の細孔4によってガスを透過させてガス分離を行なう。

請求項（抜粋）：

多孔質支持体の少なくとも一方の表面に、通気性を有するSiを含有し、環状のシロキサン結合によって形成された複数の細孔を有する非晶質の酸化物からなる分離膜を被着形成したガス分離フィルタであって、前記複数の細孔のうち、一部の細孔が、該細孔を形成する前記環状シロキサン結合の側鎖に結合した、一般式が下記化1【化1】で表される官能基によって閉塞されてなり、前記閉塞された細孔以外の前記細孔によってガスを透過させてガス分離を行なうことを特徴とするガス分離フィルタ。

IPC (2件)：

B01D 71/70 ,  C04B 41/85

FI (2件)：

B01D 71/70 ,  C04B 41/85 C

Fターム (26件)：

4D006GA41 ,  4D006HA26 ,  4D006HA41 ,  4D006JA13A ,  4D006JA25A ,  4D006KA12 ,  4D006KE06Q ,  4D006KE16R ,  4D006KE30R ,  4D006MA02 ,  4D006MA07 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA54 ,  4D006NA62 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB68