レーザ加工用ガラス基材及びレーザ加工方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-068415
公開番号（公開出願番号）：特開平11-217237
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】レーザ加工に適するガラス基材を提供する。【解決手段】 SiO2を主成分とし、これにAl2O3、B2O3、Na2O、F等を含む厚さ2mmの珪酸塩ガラスを、硝酸銀と硝酸ナトリウムを50mol%-50mol%で混合した溶融塩中に浸漬する。すると、ガラス表面のNaイオンが溶出し、溶融塩中のAgイオンがガラス中に拡散する。このようなガラス基材にレーザ光を照射すると、最表面から順次蒸発或いはアブレーションが生じ、割れや欠けを生じることがなく、加工痕も平滑な加工が可能となる。

請求項（抜粋）：

表面から所定の深さまでAg原子、AgコロイドまたはAgイオンの形態で銀が含有され、更に銀の濃度はレーザ加工される表面における濃度が最も高く、所定の深さまで徐々に銀の濃度が低くなるように濃度勾配が形成されていることを特徴とするレーザ加工用ガラス基材。

IPC (3件)：

C03C 4/00 , B23K 26/00 , C03C 3/04

FI (3件)：

C03C 4/00 , B23K 26/00 G , C03C 3/04

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭53-084016
特表昭60-501950
特開平3-037132

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