液体吐出ヘッドの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-002324
公開番号（公開出願番号）：特開2003-200578
出願日： 2002年01月09日
公開日（公表日）： 2003年07月15日
要約：

【要約】【課題】インク圧力室よりも浅いインク供給室を、工程数を増加させることなく製造可能なインクインクジェットヘッドの製造方法を提案すること。【解決手段】インクジェットヘッド形成用のシリコン基板2Aの表面にインク圧力室およびインク供給室を湿式異方性エッチングにより形成する。シリコン基板2Aにおけるインク供給室用凹部18を形成するための表面部分を覆っているマスクパターン31aを、多数の菱形開口部41を離散状態に形成したものとし、エッチングの進行に伴って各菱形開口部41の四辺42〜46から進行するアンダーカットを利用して、マスクパターン31aを自動的に剥離して除去する。マスクパターン31aが除去されるまでは、インク供給室形成用凹部を形成する部分は、インク圧力室側よりも遅い速度でエッチングが進み、マスクパターンが剥離後は同一速度でエッチングが進行する。この結果、1回のパターニング工程および1回のエッチング工程により、インク圧力室よりも浅いインク供給室を同時に形成できる。

請求項（抜粋）：

複数の液体ノズルと、各液体ノズルから液滴を吐出させる吐出力を発生するために各液体ノズルに対応して形成した複数の液体圧力室と、これら液体圧力室に液体を供給する共通の液体供給室とを有する液体吐出ヘッドの製造方法において、異方性結晶基板の表面に湿式異方性エッチングを施して、前記液体圧力室を形成するための液体圧力室用凹部と、この液体圧力室用凹部より浅い前記液体供給室を形成するための液体供給室用凹部とを形成する異方性エッチング工程を含み、この異方性エッチング工程では、前記異方性結晶基板における前記液体供給室用凹部が形成される表面部分を覆っているエッチング防止膜に形成したマスクパターンの形状に応じて発生するアンダーカットを利用して、前記液体供給室用凹部のエッチング深さを前記液体圧力室用凹部よりも浅くすることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。

IPC (3件)：

B41J 2/16 , B41J 2/045 , B41J 2/055

FI (2件)：

B41J 3/04 103 H , B41J 3/04 103 A

Fターム (8件)：

2C057AF93 , 2C057AG54 , 2C057AP02 , 2C057AP34 , 2C057AP56 , 2C057AQ01 , 2C057AQ02 , 2C057BA03

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