特許
J-GLOBAL ID:200903069144687529
パターン検出方法及びパターン検出装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 浩三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-147127
公開番号(公開出願番号):特開2002-340524
出願日: 2001年05月16日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 段差が極めて低いパターンの段差の高さ又は段差の形状を精度よく検出する。【解決手段】 照明手段は、異なる波長の2つ以上の単色光又は異なる波長の複数の光を含む照明光を発生する。分割手段は、照明手段が発生した単色光又は照明光を分割する。反射手段は、被測定物の表面と光学的にほぼ等距離に位置し被測定物の表面に対して光学的に所定の角度傾斜した反射面を有する。検出手段は、分割手段で分割した一方を被測定物の表面に照射した反射光と、他方を反射手段の反射面に照射した反射光とが干渉して得られる干渉縞を検出する。記憶手段は、検出手段で検出された干渉縞の検出結果を記憶する。処理手段は、記憶手段に記憶された干渉縞の検出結果から、パターンの段差の高さを検出し、又はパターン検出装置のフォーカス位置を検出し、又はパターンの段差の形状を検出する。
請求項(抜粋):
被測定物の表面に設けられた段差を有するパターンの検出方法であって、第1の単色光を分割して、一方を被測定物の表面に照射し、他方を被測定物の表面と光学的にほぼ等距離に位置し被測定物の表面に対して光学的に所定の角度傾斜した反射面に照射し、被測定物の表面からの反射光と前記反射面からの反射光とが干渉して得られる第1の干渉縞を検出した後、第1の単色光と波長の異なる第2の単色光を分割して、一方を被測定物の表面に照射し、他方を前記反射面に照射し、被測定物の表面からの反射光と前記反射面からの反射光とが干渉して得られる第2の干渉縞を検出し、第1及び第2の干渉縞の検出結果からパターンの段差の高さを検出することを特徴とするパターン検出方法。
IPC (6件):
G01B 11/02
, G01B 11/24
, G03F 7/20 521
, G03F 9/02
, H01L 21/027
, H01L 21/66
FI (8件):
G01B 11/02 G
, G03F 7/20 521
, G03F 9/02 H
, H01L 21/66 P
, G01B 11/24 D
, H01L 21/30 525 R
, H01L 21/30 525 M
, H01L 21/30 525 W
Fターム (35件):
2F065AA25
, 2F065BB03
, 2F065CC17
, 2F065CC20
, 2F065DD03
, 2F065FF01
, 2F065FF51
, 2F065GG02
, 2F065GG03
, 2F065GG12
, 2F065GG24
, 2F065HH03
, 2F065HH13
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL22
, 2F065LL30
, 2F065LL62
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 4M106AA01
, 4M106CA48
, 4M106DH31
, 4M106DJ21
, 5F046FA03
, 5F046FA06
, 5F046FA10
, 5F046FA17
, 5F046FA20
, 5F046FB08
, 5F046FB10
, 5F046FB13
, 5F046FC04
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