特許
J-GLOBAL ID:200903069146564041
砥液供給装置、研磨装置及び砥液供給装置の運転方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮川 貞二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-307224
公開番号(公開出願番号):特開2002-113661
出願日: 2000年10月06日
公開日(公表日): 2002年04月16日
要約:
【要約】【課題】撹拌機を必要とせずに、砥液槽の砥液の撹拌を行うことができ、濃度が均一な砥液を供給できる構造がシンプルな砥液供給装置を提供する。【解決手段】 研磨装置に所定の砥液を供給する砥液供給装置であって、研磨装置に供給される砥液を貯留する砥液槽と、砥液槽から研磨装置に砥液をQの流量で供給するポンプとを備え、所定の砥液の沈降速度をVとするとき、砥液槽の水平方向の断面積をQ/Vより小になるように形成する。砥液槽内の鉛直方向の流速を砥液の沈降速度より速くすることができ、砥液が貯留槽内を流れることにより砥液の撹拌が行われ砥液の濃度を一定に保つことができる。
請求項(抜粋):
研磨装置に所定の砥液を供給する砥液供給装置であって;前記研磨装置に供給される前記砥液を貯留する砥液槽を備え;前記砥液槽から前記研磨装置に前記砥液をQの流量で供給するよう構成され;前記所定の砥液の沈降速度をVとするとき、前記砥液槽の水平方向の断面積がQ/Vより小になるように形成された;砥液供給装置。
IPC (3件):
B24B 57/02
, B24B 37/00
, H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 57/02
, B24B 37/00 K
, H01L 21/304 622 E
Fターム (9件):
3C047FF08
, 3C047GG15
, 3C047GG18
, 3C047GG19
, 3C047GG20
, 3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CA01
, 3C058CB01
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