特許

J-GLOBAL ID：200903069151097257

プローブカード及びその製造方法並びにプローブカードを用いたIC検査方法

発明者： 近藤 清 ,  伊藤 洋哉
出願人/特許権者： 扇化学工業株式会社
代理人 (1件)： 柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-114037
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302657
出願日： 1993年04月16日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】 主に高集積度ICメモリーチップの電気的特性を検査する装置に使用するプローブカードに関するとともに、そのプローブカードの製造方法と、そのプローブカードを用いたIC検査方法に関し、ICチップの高集積化に伴う電極パッドの数の増加及び高密度化に対応し、例えば16MバイトのVLSIメモリーの検査にも用いることが可能であり、しかも耐衝撃性に優れ且つ安価に製造できるプローブカード及びその製造方法を提供するとともに、そのプローブカードを用いて位置決め精度に対する要求が比較的緩いIC検査方法を提供する。【構成】 絶縁支持体2の表面に、被検査体の各電極パッド11に対応して配設した触手部5と該触手部から放射状に延びた引出し線部6とを有する導電線3をそれぞれ絶縁状態で積層形成するとともに、前記触手部に異方性導電層9を添設してなる。

請求項（抜粋）：

絶縁支持体の表面に、被検査体の各電極パッドに対応して配設した触手部と該触手部から放射状に延びた引出し線部とを有する導電線をそれぞれ絶縁状態で積層形成するとともに、前記触手部に異方性導電層を添設してなることを特徴とするプローブカード。

IPC (4件)：

H01L 21/66 ,  G01R 1/073 ,  G01R 31/28 ,  G11C 29/00 303

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭54-016183
  
• 特開昭58-015245
  
• 特開昭59-214235