特許
J-GLOBAL ID：200903069155678718
第1部材と第2部材との間の位置合わせを検出する装置およびその決定方法並びにリソグラフィ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-188296
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035784
出願日： 2000年06月22日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】 レンズとステージとのアライメントで生じる不正確さを実質的に減少させる。【解決手段】 一つあるいは二つ以上の干渉計34、35、複数の鏡52、56および制御装置を用いて、回路基板とレンズ筒32の光学軸との位置合わせを行う。レンズ筒32はパターンをマスク36から回路基板上に投影する。レンズ筒32の光学軸は回路基板に対して垂直となっている。レンズ筒32と回路基板との正確な位置合わせを確実にするため、一つあるいは二つ以上の干渉計34、35は、それぞれの通路を有する複数のビーム、すなわち光学軸の移動に応じて変化する複数のビーム長さを使用する。干渉計ビームの検出された変化に応じて、制御装置は回路基板がレンズ筒32の光学軸と位置合わせされるようにステージ38の位置を調整する。
請求項（抜粋）：
第1部材と第2部材との間の位置合わせを検出するための装置であって、前記第1部材の第1側面に隣接して設けられた第1反射面から反射された第1測定ビームと、前記第1部材の前記第1側面とは異なる第2側面に隣接して設けられた第2反射面から反射された第2測定ビームと、を検出するための手段と、前記第1反射面から反射された第3測定ビームと、前記第2部材の第1側面に隣接して設けられた第3反射面から反射された第4測定ビームと、を検出するための手段と、前記第1測定ビームから前記第4測定ビームに基づいて前記第1部材と前記第2部材との間の位置合わせを決定するための手段と、を具備していることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 9/02
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 520 Z
, G01B 9/02
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
