特許

J-GLOBAL ID：200903069158310622

塩素の製造方法

発明者： 岩永 清司 ,  鈴田 哲也 ,  森 康彦 ,  吉井 政之
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004538
公開番号（公開出願番号）：特開2000-272907
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 塩化水素を含むガス中の塩化水素を、酸素を含むガスを用いて酸化する塩素の製造方法であって、触媒充填層の過度のホットスポットを抑制し、触媒充填層を有効に活用することによって、触媒の安定した活性が維持され、かつ塩素を安定して高収率で得ることができ、よって触媒コスト、設備コスト、運転コスト、運転の安定性及び容易性の観点から極めて有利な塩素の製造方法を提供する。【解決手段】 触媒の存在下、塩化水素を含むガス中の塩化水素を、酸素を含むガスを用いて酸化する塩素の製造方法であって、少なくとも二の直列に配列された触媒充填層からなる反応域を有し、かつ該反応域のうちの少なくとも一の反応域の温度制御を熱交換方式によって行う塩素の製造方法。

請求項（抜粋）：

触媒の存在下、塩化水素を含むガス中の塩化水素を、酸素を含むガスを用いて酸化する塩素の製造方法であって、少なくとも二の直列に配列された触媒充填層からなる反応域を有し、かつ該反応域のうちの少なくとも一の反応域の温度制御を熱交換方式によって行う塩素の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 7/04 ,  B01J 23/46 301

FI (2件)：

C01B 7/04 A ,  B01J 23/46 301 M

Fターム (24件)：

4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB08A ,  4G069BC03A ,  4G069BC31A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC58A ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BD12A ,  4G069CB81 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EA04Y ,  4G069EA18 ,  4G069EB14Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EE08