特許

J-GLOBAL ID：200903069163705457

リソグラフィック装置及びデバイス製造方法

発明者： エリック ロエロフ ロープシュトラ ,  マルセル マシユス セオドア マリー ディーリヒス ,  ヨハネス クリスティアーン マリア ヤスペル ,  ヘンドリクス ヨハネ マリア マイヤー ,  ウヴェ ミカン ,  ヨハネス キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス ,  マシュー リプソン ,  タンモ ウィッテルティユク ,  ヨハネス ヤコブス マテウス バセルマンス
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-247632
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093997
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】リソグラフィック装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】投影システムの最終エレメントと基板Wの間に配置される液浸液と共に使用するためのリソグラフィック投影装置を開示する。投影システム、基板テーブル及び液体拘束システムのコンポーネントを保護するための複数の方法を開示する。これらの方法には、投影システムの最終エレメント20に保護コーティングを施すステップと、コンポーネントの上流側に犠牲体を提供するステップが含まれている。また、CaF2の2コンポーネント最終光学エレメントを開示する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

投影システムを使用してパターン化デバイスから基板上にパターンを投影するようになされ、かつ、前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間の空間の少なくとも一部に液浸液を充填するための液体供給システムを有し、前記液浸液と接触する前記最終エレメントの表面に、実質的に前記液浸液に対して不溶性の保護コーティングが施されたリソグラフィック投影装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G02B1/10 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  G02B1/10 Z

Fターム (12件)：

2K009BB04 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009DD05 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB24 ,  5F046DA27