特許
J-GLOBAL ID：200903069177354770
イーシーアール装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-013846
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267902
出願日： 1994年02月07日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 ウェハの非等方性蝕刻と選択比間の相反的増減現象を解消できるECR装置を提供すること。【構成】 ECR装置は、ヘリウムラインと内部に冷却水が流れる冷媒流管を有するウェハ支え台1を備え、これをRF端子と連結させている。リフティングピン6はウェハ支え台上に位置するウェハを垂直に持ち上げたり安着させる。RFがかかるウェハ支え台の側面と下部面は絶縁体で絶縁される。ヘリウムチューブはヘリウム投入口25からウェハ基板の下に冷却用ヘリウムガスを注入する。冷媒チューブは冷媒注入口33から冷媒流出口34までウェハ支え台内部に冷却水を循環させる。反応ガスは真空チャンネルとポンピングラインにより抜き出される。ウェハの昇降は4足リフタ4により行う。
請求項（抜粋）：
イーシーアール(ECR)装置において、ウェハを支えて工程が進行できるようにするが、前記ウェハの下に熱伝達ガスが注入されてウェハの温度を低下させる手段と内部に冷却水が流れる冷媒流管を有しているため、ウェハから伝達された熱を冷やし、高周波端子と連結させるウェハ支え台、前記ウェハ支え台の内部を貫通してその内部で垂直運動をすることにより、上記ウェハ支え台上に位置するウェハを垂直に持ち上げたり安着させるリフティング手段、RFがかかるウェハ支え台の側面と下部面を絶縁する絶縁体、前記ウェハ支え台下端に密着して設けられた高周波遮断絶縁体を貫通してウェハ基板の下に冷却用ヘリウムガスを注入するヘリウムチューブ、前記ウェハ支え台内部を循環して低温化させる冷却水を案内する冷媒チューブ、およびウェハで反応を起こしたガスをポンピング動作により抜き出す真空チャンネルとポンピングラインを具備することを特徴とするイーシーアール装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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