特許

J-GLOBAL ID：200903069189057771

乾燥方法および装置

発明者： 山上 孝 ,  兼松 雅義 ,  原島 正成
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-245390
公開番号（公開出願番号）：特開平9-069488
出願日： 1995年08月30日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【目的】 遠心脱水によらずにフォトレジストを安全に乾燥する。【構成】 ウエハ41にフォトレジスト42を塗布されたワーク40は乾燥機能付き現像装置1の処理容器4に搬入されて吸着チャック10に保持される。切換弁30が現像液供給ユニット32側に切り換えられ、現像液がワークと現像液保持面部22との隙間に吐出されて現像される。所定時間経過後、純水供給ユニット34側に切り換えられ、純水33が吐出されてリンスされる。切換弁25が窒素ガス供給ユニット28側に切り換えられて窒素ガス27の吐出で純水33を外部に吹き飛ばす。その後、切換弁25が真空ポンプ26側に切り換えられて処理室4は減圧され、ワークおよび処理室4の水分は減圧蒸発されて乾燥される。【効果】 減圧蒸発乾燥のため、ワークを回転させずに乾燥でき、微細で高アスペクト比のフォトレジストパターンであっても安全に乾燥できる。

請求項（抜粋）：

物品に塗布されて湿潤されたフォトレジストを乾燥する乾燥方法において、前記湿潤したフォトレジストが晒された雰囲気を減圧してフォトレジストを乾燥させることを特徴とする乾燥方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 361

FI (2件)：

H01L 21/30 571 ,  H01L 21/304 361 H