特許

J-GLOBAL ID：200903069202332051

ホログラム走査系を用いた分割露光装置

発明者： 坂井 照男
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-342634
公開番号（公開出願番号）：特開2001-159742
出願日： 1999年12月01日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】 露光装置が複数の走査系を備える場合に、走査系の数に応じて増加する構成部品の数を、構成部品を共通化して抑制することにより、装置をコンパクトにし、且つ、ビーム径を大きくして高解像度の描画を行い、さらに、走査線の副走査方向の位置ずれを補正することのできる分割露光装置を提供する。【解決手段】 本発明の分割露光装置は、一つのレーザビームを射出する光源と、前記レーザ光源から射出される一つのレーザビームを複数のビームに分割する透過型回折素子と、描画データに基づいて複数のレーザビームをそれぞれ変調する光変調素子と、複数のレーザビームのビーム径をそれぞれ拡大するビームエキスパンダと、前記拡大されたレーザビームが入射するそれぞれのホログラム走査系とによって構成される。更に、光偏光器と、露光テーブル上にビームディテクタとを備え、ビームディテクタが検出する走査線の位置ずれ量に基づいて光偏光器を制御して、走査線の副走査方向の補正を行う。

請求項（抜粋）：

一つのレーザビームを射出する光源と、前記レーザ光源から射出される一つのレーザビームを複数のビームに分割する透過型回折素子と、描画データに基づいて複数のレーザビームをそれぞれ変調する光変調素子と、複数のレーザビームのビーム径をそれぞれ拡大するビームエキスパンダと、前記拡大されたそれぞれのレーザビームが入射するそれぞれのホログラム走査系とを有すること、を特徴とする、ホログラム走査系を用いた分割露光装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 106 ,  G02B 26/10 ,  G03H 1/02 ,  G03F 7/20 505

FI (4件)：

G02B 26/10 106 ,  G02B 26/10 A ,  G03H 1/02 ,  G03F 7/20 505

Fターム (16件)：

2H045AD01 ,  2H045BA02 ,  2H045BA26 ,  2H045BA36 ,  2H045CA23 ,  2H045DA12 ,  2H097AA03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09 ,  2K008AA05 ,  2K008DD03 ,  2K008DD12 ,  2K008EE01