特許
J-GLOBAL ID:200903069205139066
2値画像の縮小処理方法および画像形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-042037
公開番号(公開出願番号):特開2001-229373
出願日: 2000年02月18日
公開日(公表日): 2001年08月24日
要約:
【要約】【課題】画像消失を起こすことなく、かつ、濃度ムラの発生を防止して、比較的高速かつ低コストで2値画像の縮小処理を行う。【解決手段】与えられたスケール率をディザマトリクスに適用して基本スケールマトリクスを生成する(S31〜S33)。この基本スケールマトリクス内セルの行または列を並び換えて互いに異なる複数の基本スケールマトリクスを生成し、これらを組み合わせて大規模スケールマトリクスを生成する(S34)。この大規模スケールマトリクスを2値画像データに適用して、当該大規模スケールマトリクスのオフビットに対応する画素を削除する(S36)。大規模スケールマトリクスに対して、オンドットの空間的規則性をなくすように、基本スケールマトリクスを行列要素として行および列単位にさらに並べ換えを行い(S35)、その結果得られたマトリクスを新たな大規模スケールマトリクスとして使用してもよい。
請求項(抜粋):
与えられたスケール率(100%未満)に基づいて2値画像を縮小する方法であって、前記与えられたスケール率をディザマトリクスに適用して各セル内にオン/オフドットを有する基本スケールマトリクスを生成するステップと、生成された基本スケールマトリクス内セルの行または列を並び換えて互いに異なる複数の基本スケールマトリクスを生成し、これらの複数の基本スケールマトリクスを組み合わせて大規模スケールマトリクスを生成するステップと、この大規模スケールマトリクスを2値画像データに適用して、当該大規模スケールマトリクスのオフビットに対応する画素を削除するステップと、を備えた2値画像の縮小処理方法。
IPC (4件):
G06T 3/40
, B41J 5/30
, G06F 3/12
, H04N 1/393
FI (4件):
B41J 5/30 Z
, G06F 3/12 L
, H04N 1/393
, G06F 15/66 355 L
Fターム (20件):
2C087AA16
, 2C087AA18
, 2C087BA03
, 2C087BA12
, 2C087BC05
, 2C087BD06
, 5B021BB02
, 5B021LB07
, 5B021LG08
, 5B057CA06
, 5B057CB06
, 5B057CD08
, 5C076AA22
, 5C076BB06
, 5C076BB12
, 9A001EE04
, 9A001FF01
, 9A001HH27
, 9A001JJ35
, 9A001KK42
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